| emissivity | pancaran | Kimia | Tiada | pancaran: Keupayaan sesuatu permukaan untuk menyinarkan tenaga dan disukatkan berdasarkan nisbah fluks tersinar per unit luas terhadap tenaga yang disinarkan oleh jasad hitam pada suhu yang sama. |
| overluminous | lar lebih | Matematik | Tiada | Istilah yang merujuk kepada bintang yang menyinarkan cahaya yang lebih terang daripada bintang jujukan utama yang jisimnya sama dengan jisim bintang tersebut. |
| amplitude splitting | pembelahan amplitud | Fizik | Optik | Teknik pembelahan cahaya yang dilakukan dengan menyinarkan cahaya ke atas permukaan yang memantulkan separuh cahaya tersebut. Sebahagian dari cahaya itu dipancarkan dan sebahagian lagi dipantulkan. Kedua-dua komponen cahaya tersebut digabungkan semula untuk memberikan kesan interferens. |
| laserstrobe | laserstrob | Kejuruteraan | Tiada | Alat yang berfungsi sebagai stroboskop yang menggunakan laser untuk menyinarkan suatu objek dalam sela masa yang singkat. |
| exposure time | tempoh dedahan | Teknologi Ujian Tanpa Musnah | Radiografi dan Ultrasonik | Tempoh masa yang diperlukan untuk menyinarkan sampel ujian bagi mendapatkan imej radiograf dengan ketumpatan filem yang boleh diterima. |
| photolithography | fotolitografi | Fizik | Nanoteknologi | Litografi untuk membuat peranti semikonduktor atau bahan berstruktur yang bersaiz mikrometer dengan cara menyinarkan cahaya ke atas topeng yang berada di atas wafer bersalut fotorintang. Suatu siri rawatan kimia akan mengukir corak yang terdedah pada bahan di bawah fotorintang. Dalam pembinaan litar bersepadu kompleks seperti CMOS, suatu wafer akan menjalani kitaran fotolitografi sehingga 50 kali. |
| optical Ramsey method | kaedah optik Ramsey | Kejuruteraan | Tiada | Kaedah yang digunakan untuk memperolehi lebar garis subasli atom dengan menyinarkan tiga atau empat alur laser selari pada alur atom. |
| X-ray lithography | litografi sinar-X | Fizik | Nanoteknologi | Litografi untuk membuat peranti semikonduktor atau bahan berstruktur yang amat kecil dalam saiz 10(2) nm dengan cara menyinarkan sinar-X ke atas topeng yang berada di atas wafer bersalut fotorintang. Jarak gelombang sinar-X ialah 0.8 nm atau kurang. Topeng diperbuat daripada bahan penyerap sinar-X seperti emas, sebatian tantalum atau tungsten. Contoh bahan berstruktur nano yang dibuat menggunakan litografi sinar-X ialah hablur fotonik. |
| Fourier transfourmation infrared spectroscopy | spektroskopi inframerah transformasi Fourier | Kimia | Kimia Analisis | Teknik spektroskopi inframerah yang bergantung kepada pengukuran yang menggunakan suatu interferometer yang kesemua unsur dikaji secara serentak dengan menyinarkan sampel dengan suatu denyut tenaga dalam julat inframerah. Tenaga yang terhasil adalah dalam bentuk frekuensi komposit yang dapat ditukarkan kepada frekuensi-frekuensi asal menggunakan kaedah transformasi Fourier, dengan menggunakan komputer yang akan memberikan spektrum dalam bentuk biasa. Kaedah ini lebih pantas dan memberi resolusi yang baik dengan nisbah isyarat ke-bisingan yang lebih tinggi. bd. spektroskopi inframerah. |